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PCB蝕刻是印刷電路板(PCB)制造中的關(guān)鍵步驟,其目的是通過化學(xué)或物理方法去除不需要的銅層,保留設(shè)計(jì)好的電路圖形。以下是PCB蝕刻的詳細(xì)解析:
設(shè)計(jì)電路圖形
使用EDA軟件(如Altium Designer、KiCad)設(shè)計(jì)電路圖,生成Gerber文件。
圖形轉(zhuǎn)印
光刻法:在覆銅板上涂覆光刻膠,通過紫外光曝光顯影,形成抗蝕層(保護(hù)所需電路)。
熱轉(zhuǎn)印法(DIY常用):用激光打印機(jī)將電路圖打印到轉(zhuǎn)印紙,再通過高溫將墨粉轉(zhuǎn)印到覆銅板。
蝕刻
將覆銅板浸入蝕刻液,未被保護(hù)的銅被溶解,僅保留線路部分的銅層。
去膜與清洗
去除抗蝕層(如用NaOH溶液去光刻膠),清水沖洗后得到裸露的電路。
蝕刻不凈(殘留銅) 原因:蝕刻時(shí)間不足、溶液濃度低、溫度過低。 解決:延長蝕刻時(shí)間,補(bǔ)充蝕刻液濃度,適當(dāng)加熱溶液。
過蝕刻(線路變細(xì)或斷裂) 原因:蝕刻時(shí)間過長、溶液活性過強(qiáng)。 解決:縮短時(shí)間,稀釋蝕刻液或更換新液,控制溫度。
側(cè)蝕(Undercut) 現(xiàn)象:線路邊緣被橫向腐蝕,導(dǎo)致線路寬度減小。 改善:
使用高分辨率抗蝕層(如干膜替代油墨)。
選擇側(cè)蝕小的蝕刻液(如堿性氯化銅)。
優(yōu)化蝕刻參數(shù)(如降低溫度、加快蝕刻速度)。
安全防護(hù)
蝕刻液具有強(qiáng)腐蝕性,需佩戴手套、護(hù)目鏡,在通風(fēng)環(huán)境中操作。
廢液處理
酸性/堿性蝕刻液含重金屬,需中和處理(如用NaOH中和酸性液)并回收銅。
精度控制
高密度電路板建議采用噴淋蝕刻機(jī),減少側(cè)蝕;DIY可用搖晃容器加速反應(yīng)。
溫度影響
溫度每升高10℃,蝕刻速度約翻倍,但側(cè)蝕也會(huì)加劇,需權(quán)衡。
將覆銅板裁剪至所需尺寸,表面清潔去氧化。
轉(zhuǎn)印電路圖(熱轉(zhuǎn)印或記號(hào)筆手繪)。
配制30%-40%濃度的氯化鐵溶液,加熱至40-50℃(可加快反應(yīng))。
將板放入蝕刻液,搖晃容器直至裸露銅層完全溶解(約10-30分鐘)。
取出板子,清水沖洗后用酒精清除油墨,最后打磨拋光。
雙面板蝕刻:需使用沉銅工藝或金屬化孔技術(shù)保證通孔導(dǎo)電性。
精細(xì)線路優(yōu)化:采用UV曝光法+高分辨率干膜,蝕刻液選擇堿性體系。
環(huán)保替代方案:檸檬酸+過氧化氫蝕刻液(速度較慢,但無毒)。
通過合理選擇蝕刻液和優(yōu)化工藝參數(shù),可以平衡蝕刻速度、精度和成本,適用于從原型開發(fā)到批量生產(chǎn)的不同需求。
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